〈 概要 〉
本編は、半導体前工程において、ベアウェーハ製造プロセスから配線プロセスに関わる当社膜厚計の特長と役割についてご紹介します。
ウェーハ基板の厚み平坦性や配線内各種薄膜の膜厚平坦性は欠かせないキーパラメータです。他にない当社製品の特長やプロセスに役立つ機能が各種デバイスの問題解決をサポートします。
関連機器
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- 顕微分光膜厚計 OPTM series
- 分光干渉式ウェーハ厚み計 SF-3
- ロードポート対応膜厚測定システム GS-300
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〈 お申込み 〉
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- 開催時間：15:00～16:00（開始5分前よりアクセス可能です）
- 申込期間：～4月23日（火） 10:00 まで
- 開催方式：オンライン（Microsoft Teams）
- 参加費：無料
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