画像測定システム
NEXIV VMF-Kシリーズ

ニコン

光学系の刷新により、高さ測定のスキャンスピードが向上。これにより、従来機のVMZ-Kシリーズと比較し、約1.5倍のスループット向上を実現しました。また最先端アドバンスドパッケージにおける微細寸法測定ニーズにお応えするため、高倍率45倍モデルを新たにラインアップに加えました。

特長

● 更なる測定スループットの向上
高さ方向のスキャン速度高速化により、VMZ-Kシリーズと比較して約1.5倍の測定スループット向上を実現します。

● 半導体産業の多様なサンプルに対応
プローブカード、ウェハレベルパッケージなど、半導体製造における様々な測定ニーズに対応します。ウェハレベルパッケージでは、長寸法や微細寸法、形状、反り、膜厚などを測定可能です。

● 高倍率45倍モデルによる微細化対応
微細化・高集積化する先端半導体デバイスの微細寸法測定要求に応える倍率45倍の光学系を搭載したモデルをラインナップ。2 µmを切る微細なL/Sのトップ・ボトムの幅、高さを高速かつ高精度に測定することができます。

● 高精度・高速な座標系計測
視野の範囲を超える長寸法の座標系計測が可能です。ニコンのNEXIVシリーズは、画像測定システムメーカーとしての長年の技術とノウハウをシステム設計に反映し、長寸法においても高精度で安定した測定を実現します。

● 高コントラスト / 段差のあるサンプルの測定
コンフォーカル光学系により、プリント基板銅線のような高コントラストのサンプルを安定して測定できます。ハレーションなどの影響で、明視野では正確な測定が困難なサンプルも、コンフォーカル観察では正確に形状を捉えることができます。

● 透明度が高く薄いサンプルの測定
光学測定システム共通の課題である、金属表面フィルムや半導体レジストのような表面反射により正確な位置検出が困難なサンプルにおいても、コンフォーカル光学系により透明体表面と金属表面の2点を正確に検出可能です。

情報提供元: 株式会社ニコン

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