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冷却クロスセクションポリッシャ™ 断面試料作製装置
IB-19520CCP

日本電子

加工時に試料を液体窒素冷却する事によりイオンビームによる熱ダメージを軽減させる事が出来ます。冷却保持時間も長く、液体窒素の消費量を抑えた構造になっています。液体窒素を入れたまま、短時間で試料の冷却、室温戻し、取り外しが可能です。

特長

● 自動加工プログラム
高速加工と仕上げ加工をプログラムすることができます。高品質な断面を短時間で作製できます。また、間欠加工プログラムにより、加工温度を抑えた加工ができます。

● マルチパーパスステージ
各種機能ホルダーを選択することにより、断面ミリングだけではなく、平面ミリング、回転断面ミリング、イオンビームスパッタコーティング機能の拡張が可能です。

● 冷却機能
間欠加工、冷却機能、温度調整冷却機能の使い分けにより様々試料加工に対応。大気非曝露環境下で、加工から観察までを行う為の搬送機構が付いています。

主な仕様

● 標準仕様

形式 IB-19520CCP
イオン加速電圧 2~8kV
ミリングスピード 500µm/h以上(加速電圧8kV)※1
試料スイング機能*2 ±30°自動スイング
自動加工開始モード
自動冷却加工開始モード / 自動室温復帰モード
試料ステージ冷却到達温度 -120°C以下
冷却温度設定範囲 -120~0°C
試料冷却-100°C到達時間 60分以内
試料冷却保持時間 8時間以上 ※3
大気非曝露機能
間欠加工モード イオンビーム照射時間と停止時間を設定可能(ON:1~999秒、OFF:1~999秒)
仕上げ加工モード 自動的に加工条件切り替え
広域断面ミリングモード ※4 最大加工幅:8mm(オプション:広域加工ホルダー IB-11730LMH)
最大搭載試料サイズ 断面ミリング 11mm (幅)×8mm (長さ)×3mm (厚さ)(標準付属試料ホルダー)
25mm (幅)×15mm (長さ)×10mm (厚さ)(オプション:広域加工ホルダー IB-11730LMH)
平面ミリング 40mm (直径)×15mm (厚さ)(オプション: 大形試料回転ホルダーIB-11550LSRH)
試料移動範囲 X軸:±6mm、 Y軸:±2.5mm
操作法 タッチパネル、6.5型ディスプレー
加工位置合わせ法 カメラにより試料ステージ上をモニター※5。 光学顕微鏡下でも加工位置調整可能
位置合わせ用カメラ倍率 約×70(6.5型ディスプレー上)
加工観察用カメラ倍率 約×20 ~ ×100(6.5型ディスプレー上)
外部モニター出力 ※6 位置合わせ用カメラと加工観察用カメラを切り替えて外部モニターに表示可能(EC-10020VST取り付け時)
プリセット機能 加工条件(加速電圧、アルゴンガス流量、加工時間、間欠加工)を4組プリセット
寸法・質量 本体 690mm (幅)×720mm (奥行) ×530mm (高さ)、約75kg
ロータリーポンプ 120mm (幅)×288.5mm (奥行)×163mm (高さ)、約9.3kg

※1 2時間の平均値、Si換算、エッジ距離100µm
※2 特許:第4557130号
※3 設定温度が高い程、冷却保持時間は長くなります。
※4 冷却機能と組み合わせて使用可能です。
※5 特許:第4208658号
※6 EC-10020VSTを装着すると、外部モニターにカメラ画面を出力することができます。

メーカー製品URL:
https://www.jeol.co.jp/products/scientific/cp/IB-19520CCP.html

情報提供元: 日本電子株式会社

・本ページに記載されている内容は抜粋情報となっております。詳細はメーカーHP、製品カタログ等をご参照ください。
 また、製品・仕様は予告なく変更、製造中止となることがあります。
・当社営業エリア内の対応とさせていただきます。またエリア内であっても対応できない場合がございます。