パルス光加熱サーモリフレクタンス法熱拡散率測定装置
NanoTR / PicoTR
NETZSCH Japan
ナノメートルオーダーの薄膜の熱物性が測定可能な唯一の装置
特長
● 厚さ数十nm～数十µmの薄膜の熱拡散率や熱浸透率、界面熱抵抗を測定することが可能
● 裏面加熱 / 表面測温方式（RF方式）と表面加熱 / 表面測温方式（FF方式）の両方式を搭載しており、基板の種類を問わず測定することが可能
●（国研）産業技術総合研究所が国家標準として供給している熱拡散標準薄膜（CRM5808、CRM5810）により検証された、SIトレーサブルな装置
● JIS R 1689 およびJIS R 1690 に準拠に準拠
主な仕様
| 型式 | NanoTR | PicoTR |
| 温度範囲 | 室温 ～ 300℃ | -100 ～ 500℃ |
| パルス幅 / 波長 / ビーム径 | 1 ns / 1550 nm / 100 µm | 0.5 ps / 1550 nm / 45 µm |
| 測定膜厚方法 | 樹脂：30 nm ～ 2 µm セラミックス：300 nm ～ 5 µm 金属：1 ～ 20 µm |
樹脂：10 ～ 100 nm セラミックス：10 ～ 300 nm 金属：100 ～ 900 nm |
| 測定項目 | 熱拡散率 / 熱浸透率 / 熱伝導率 / 界面熱抵抗 | |
メーカー製品URL:
https://www.netzsch.co.jp/product/nanotr-picotr/
情報提供元: NETZSCH Japan株式会社
・本ページに記載されている内容は抜粋情報となっております。詳細はメーカーHP、製品カタログ等をご参照ください。
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