赤外線ランプ加熱装置
RTP-mini

アドバンス理工

赤外線加熱装置 RTP-6 をコンパクトな卓上型にした装置です。

特長

● 従来の熱排気ユニットを削除し、冷却ファンを採用した事で、効率良い冷却と騒音低減で静音加熱を実現しました。

型式	RTP-mini
温度範囲	RT～1000℃　max.1100℃
試料寸法	標準 Φ6 インチウエハ1 枚（その他ウェハ形状は別途相談）
雰囲気	N₂ガスフロー中、真空中（真空排気装置はオプション）
最大加熱速度	10℃/s （SiC コートカーボンサセプタ使用）
均熱精度	ΔT＝10℃ 800℃ 保持時2分後、N₂ガスフロー中（SiC コートカーボンサセプタ使用）
制御センサ	熱電対JIS ｰK

情報提供元: アドバンス理工株式会社

・本ページに記載されている内容は抜粋情報となっております。詳細はメーカーHP、製品カタログ等をご参照ください。
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