雰囲気可変型ランプ加熱装置
QHC / VHC シリーズ
アドバンス理工
太陽電池 / 化合物半導体等のプロセス開発や様々なアプリケーションとセットアップが可能
特長
● QHC・VHCシリーズは赤外線ゴールドイメージ炉と温度コントローラを組合せ、さらに石英の熱処理チャンバをコンパクトに装備した高速加熱・冷却装置です。お客様のニーズに合わせたカスタマイズが可能です。
● 用途
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- 太陽電池基板の熱処理
- 水素雰囲気下での熱処理
- 各種材料の基礎研究用雰囲気アニール・熱処理シミュレータ
- ガスクェンチ熱処理
- 熱サイクル・熱衝撃試験
- 半導体材料の焼成、プロセスアニール条件の検討
主な仕様
| 型式 | QHC、VHC-E410 | QHC、VHC-P610C | QHC、VHC-P616C |
| 加熱方式 | 赤外線楕円面反射集光式 | 赤外線放物面反射集光式 | |
| 温度範囲 | RT ～ 1400℃ | RT ～ 1200℃ | |
| 熱処理ゾーン | Φ15mm×長100mm | Φ50mm×長100mm | Φ50mm×長150mm |
| 均熱ゾーン（加熱時） | Φ10mm×長80mm | Φ40mm×長80mm | Φ40mm×長120mm |
| 冷却方式 | チャンバ内石英ノズルよりガス吹付方式 | ||
※ 温度範囲は試料の熱容量・赤外線の反射・吸収によって異なります。
※ 加熱炉やオプションを変更追加することは可能です。
メーカー製品URL:
https://advance-riko.com/products/qhc-qhc/
情報提供元: アドバンス理工株式会社
・本ページに記載されている内容は抜粋情報となっております。詳細はメーカーHP、製品カタログ等をご参照ください。
また、製品・仕様は予告なく変更、製造中止となることがあります。
・当社営業エリア内の対応とさせていただきます。またエリア内であっても対応できない場合がございます。