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空冷卓上型ランプ加熱装置
MILA-700AR

アドバンス理工

冷却水を使わない卓上型ランプ加熱装置

特長

● 冷却は空冷ファン採用なので、壁コンセント(AC100V)さえ有れば直ちに加熱が出来ます。

● 用途

    • Si ウエハ、化合物ウエハの高速加熱
    • 光CVDの基板加熱などエレクトロニクス材料の高速加熱
    • ガラス基板、セラミックス、複合材料などの熱処理
    • 熱サイクル試験
    • 金属材料の焼鈍
    • コーティング膜の耐熱評価
    • 有機材料、樹脂類の加熱、乾燥

主な仕様

 型式 MILA-700AR
温度範囲 RT~700℃(最高800℃)
最高昇温速度 25℃/s
※ RT~700℃の範囲でノンコントロールフルパワー加熱時の平均加熱速度
温度分布 ΔT=10℃ at 700℃保持中
加熱雰囲気 大気中、真空中、不活性ガス中
試料寸法 W20mm×L20mm×t2.0mm MAX
温度制御センサ JIS熱電対 K
ランプ定格 赤外線ランプ 100V 375W 4本使用

メーカー製品URL:
https://advance-riko.com/products/mila-700ar/

情報提供元: アドバンス理工株式会社

・本ページに記載されている内容は抜粋情報となっております。詳細はメーカーHP、製品カタログ等をご参照ください。
 また、製品・仕様は予告なく変更、製造中止となることがあります。
・当社営業エリア内の対応とさせていただきます。またエリア内であっても対応できない場合がございます。