卓上型ランプ加熱装置
MILA-5050
アドバンス理工
本装置は、試料寸法50mm 角までの熱処理を可能とした卓上型ランプ加熱装置です。
特長
● 「もう少し大きい試料の熱処理がしたい」というお客様のご要望にお応えし、加熱炉、チャンバ、温度制御器を一体にしたコンパクトなボディはそのままに、50mm 角までの熱処理を可能といたしました。
● 用途
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- Siウエハ、化合物ウエハの高速加熱
- 光CVD の基板加熱などのエレクトロニクス材料の高速加熱
- ガラス基板、セラミックス、複合材料などの熱処理
- 熱サイクル試験
- 金属材料の焼鈍
- コーティング膜の耐熱評価
- 有機材料、樹脂類の加熱、乾燥
主な仕様
| 型式 | MILA-5050 |
| 温度範囲 | RT ～ 1200℃ |
| 昇温速度 | 50℃/s |
| 試料寸法 | 角 50 または Φ 50mm × 厚 5mm |
| 加熱雰囲気 | 真空中、各種ガスフロー中 |
| プロセス圧力 | 10Pa ～ 大気圧 |
※ 真空排気装置はオプション
※ 加熱温度は、加熱物の赤外線反射・吸収、熱容量と材質により異なります。
メーカー製品URL:
https://advance-riko.com/products/mila-5050/
情報提供元: アドバンス理工株式会社
・本ページに記載されている内容は抜粋情報となっております。詳細はメーカーHP、製品カタログ等をご参照ください。
また、製品・仕様は予告なく変更、製造中止となることがあります。
・当社営業エリア内の対応とさせていただきます。またエリア内であっても対応できない場合がございます。