特長

● 自在な雰囲気下で加熱する事が可能。温度コントロｰラと雰囲気可変チャンバが一体化した小型で低価格な赤外線ランプ加熱装置です｡加熱操作をUSB接続によりパソコン上で行なえ､手軽にデータ管理ができます。

● 用途

• • 強誘電体薄膜の結晶アニール
  • イオン注入後の拡散アニール、酸化膜生成アニール
  • Si、化合物ウェハのシンタリング、アロイング処理
  • ガラス基板の均熱アニール
  • 熱サイクル、熱衝撃、熱疲労試験
  • 昇温脱理試験用加熱炉
  • 触媒効果試験

主な仕様

型式	MILA-5000-P-F （均熱型）	MILA-5000-P-N （高温型）	MILA-5000UHV （高温・高真空型）
温度範囲	RT ～ 800℃	RT ～ 1200℃	RT ～ 1000℃
試料寸法	角 20mm × 厚 2mm
加熱雰囲気	大気中、低真空中、不活性ガス中		大気中、高真空中、不活性ガス中
プロセス圧力	10Pa～大気圧（RP※1使用、室温無負荷）		10⁻⁴Pa～大気圧（TMP※1使用、室温無負荷）

※1　真空排気装置はオプション
※2　加熱温度は、加熱物の赤外線反射・吸収、熱容量と材質により異なります。