超高温ランプアニール装置
HT-RTA59HD
アドバンス理工
小片試料を1800℃まで10秒で昇温
特長
● SiCなど高価な試料やその他高融点材料の小片試料をスポット加熱による高い反射効率で、超高温領域1800℃まで昇温可能な卓上型超高温ランプアニール装置です。
● 用途
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- SiC（パワーデバイス）酸化膜形成～活性化
- 高融点材料の熱処理
- 焼結、焼成炉
- 局部加熱衝撃試験炉
- 結晶成長試験炉（ゾーンメルト）
主な仕様
| 型式 | HT-RTA59HD |
| 温度範囲 | RT ～ 1800℃ |
| 試料寸法 | 角15mm × 厚1mm |
| 加熱雰囲気 | 各種ガスフロー中 |
| 熱電対 | JIS B Φ0.3 （W-Re対応可） |
メーカー製品URL:
https://advance-riko.com/products/ht-rta59hd/
情報提供元: アドバンス理工株式会社
・本ページに記載されている内容は抜粋情報となっております。詳細はメーカーHP、製品カタログ等をご参照ください。
また、製品・仕様は予告なく変更、製造中止となることがあります。
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